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集成电路制造工艺
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作者: 林明祥编著 出版社: 机械工业出版社
译者:   丛书名:
出版日期:2005-10-9 上架日期:2005-10-13 13:37:00
ISBN:7111173007/TN 页数:      版次:1-3
开本:16 装帧:

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| 大封面 | 封底 | 前言 | 内容简介 | 序言 | 目录 | 作者简介 | 译者简介 | 作者序 | 译者序 |

【读者评论】

内容简介
本书是依据高等职业教育的特点编写的,是一本将集成电路的制造工艺原理和制造技术融为一体的教材。
由于硅器件占据了微电子产品的绝大部分领域,所以本教材以硅平面工艺为主线,同时也介绍砷化镓之类其他工艺。本书共15章,介绍了硅单晶制备;外延、氧化、溅射(蒸发)、化学气相淀积等薄膜制备技术;扩散、离子注入等掺杂技术;制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术;金属化和平坦化、组装工程、产品可靠性,以及洁净技术、去离子水制备等外围加工技术。
本书适合作为高职高专电子信息技术相关专业的教材,也适合作为从事微电子专业的中高级技术工人的培训教材。

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