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薄腊材料制备原理、技术及应用(第2版)
您想读这本书吗?
作者:
唐伟忠
出版社:
冶金工业出版社
译者:
丛书名:
出版日期:2003-1-1
上架日期:2005-11-7 16:57:00
ISBN:7502430970
页数: 版次:第2版
开本:32开
装帧:平装
市场价:
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高级会员价:
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内容简介
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序言
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目录
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作者简介
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译者简介
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作者序
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译者序
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【读者评论】
内容简介
本书讨论了薄膜材料制备技术中常用的真空技术、各种物理化学气相沉积技术、薄膜材料的微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法。
目录
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1 薄膜制备的真空技术基础 1.1 气体分子运动论的基本概念 1.2 气体的流动状态和真空抽速 1.3 真空泵简介 1.4 真空的测量 参考文献 2 薄膜的物理气相沉积(Ⅰ)——蒸发法 2.1 物质的热蒸发 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度 2.3 真空蒸发装置 参考文献 3 薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)——溅射法及其他PVD方法 3.1 气体放电现象与等离子体 3.2 物质的溅射现象 3.3 溅射沉积装置 3.4 其他物理气相沉积方法 参考文献 4 薄膜的化学气相沉积 4.1 化学气相沉积反应的类型 4.2 化学气相沉积过程的热力学 4.3 化学气相沉积过程的动力学 4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟 4.5 化学气相沉积装置 4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术 参考文献 5 薄膜的生长过程和薄膜结构 5.1 薄膜生长过程概述 5.2 新相的自发形核理论 5.3 薄膜的非自发形核理论 5.4 连续薄膜的形成 5.5 薄膜生长过程与薄膜结构 5.6 非晶薄膜 5.7 薄膜结构 5.8 薄膜的外延生长 5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力 参考文献 6 薄膜材料的表征方法 7 薄膜材料及其应用
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